From 383bca656436943da9ed566eb30fbf7868f2cb12 Mon Sep 17 00:00:00 2001 From: fede Date: Fri, 24 Jul 2026 19:39:23 -0300 Subject: [PATCH] feat: terminado resumen pedro --- Electro/resumen.final.1.epub | Bin 0 -> 14859 bytes Electro/resumen.final.1.org | 409 +++++++++++++++++++++++++++++++++++ 2 files changed, 409 insertions(+) create mode 100644 Electro/resumen.final.1.epub create mode 100644 Electro/resumen.final.1.org diff --git a/Electro/resumen.final.1.epub b/Electro/resumen.final.1.epub new file mode 100644 index 0000000000000000000000000000000000000000..bf90922d7797ed22080370c4612ee5f6c3680dff GIT binary patch literal 14859 zcmWIWW@Zs#VB%n4*uCXPOn%~O9T5fw1`y_8U|`72%uOw+EJ#f(D9Fi7PAtjH&(lvW zC{5C?$}E8Cc^N?$_nTJxP3b}T`G`qWRaP(^0VuUPR=v=|2yyKXS3`R-xzVFME!K%#O%mUm(50 z?iqs-tI>|b=D9V+`?jdex@o-gp8HDH+_UAEvWo2_zrNnm`|I}}22>x2mLF-*WM*KP z$Hl-Pz`(%Z8W8FPj-J%K621I_w58L|_b)aRIsX20xWe~{#>NRLVy$adc`c5+wYF^e z^tiCTzaDE?eR3yz{<{ACW+Gdfan9tEXK&p9UTOa)XV0&S6{{2YZ+To5QRz$)ayUG7 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transistores sean cada vez más pequeños? + +Menor consumo electrico y mayor densidad de transistores en el mismo espacio. además de mayor velocidad del procesador dada porque la electricidad atraviesa un menor espacio + + - ¿Qué establece la Ley de Moore? + +Que cada dos años se duplica la cantidad de transistores posibles en un mismo espacio fisico + + - ¿Quién fue Gordon Moore y en qué año señaló el patrón de su ley? + +Fundador de Intel, y el patron fue descubierto en 1965 + + - ¿Alrededor de qué año se detuvo el progreso de la Ley de Moore debido a límites tecnológicos? + +2015 + + - ¿Cuál es el costo aproximado de la máquina más compleja de ASML? + +400 Millones de dolares aproximados. + + - ¿Cómo se llama la empresa que salvó el progreso de la industria de chips? + +ASML + + - ¿Cuántas capas de rascacielos computacionales puede tener un microchip? + +Centenares + + - ¿Qué material se purifica para obtener trozos de silicio casi 100% puros? + +Dioxido de Silicio + +* El Proceso de Fabricación (Fotolitografía) + - ¿Cómo se obtiene un gran lingote de silicio monocristalino? + +Mediente cristalizacion + + - ¿En cuántas obleas se puede cortar un solo lingote usando sierras de hilo diamantado? + +hasta 5 mil + + - ¿Qué es el fotorresistente y para qué se usa? + +es un material que se usa de mascara en el proceso de litografia, las partes que quedan expuestas a la luz se vuelven solubles + + - ¿Qué ocurre con un fotorresistente positivo al exponerse a la luz? + +Hace que el material cubierto no se vuelva soluble. + + - ¿Cómo se eliminan las partes debilitadas del recubrimiento tras la exposición? + +Utilizando una solucion se quita el material soluble. + + - ¿Qué técnica se usa para convertir patrones de luz en estructuras físicas? + +Se graba el diseño usando quimicos o plasma + + - ¿Con qué metal se suelen rellenar las líneas grabadas en el silicio? + +Cobre + + - ¿Cuántas capas puede tener un chip moderno? + +de 10 a 100 capas + + - ¿Cuál es la capa más complicada de fabricar en un chip? + +la que usa litografia + + - ¿Qué transportan los cables metálicos de las capas superiores? + +informacion y energia + + - ¿Qué define el paso de fotolitografía en la fabricación? + +La fotolitografía define el patrón de las estructuras que se transferirá al material mediante una máscara y luz. + + - ¿Por qué es difícil imprimir detalles cada vez más pequeños con luz? + +Porque la mascara tiene un nivel de precision que se acerca a la de la amplitud de onda de la luz. + + - ¿Qué es una retícula o máscara? + +Es un filtro que tapa las partes que no deben de ser expuestas a la luz. + + - ¿Qué sucede con los frentes de onda de la luz al pasar por la retícula? + +Se propagan como ondas teniendo espacios donde se candelan y otros donde se ve fuera de fase. + + - ¿Qué es la interferencia constructiva en el patrón de difracción? + +Es utilizar la defracion de la luz para poder crear el patron requerido para la capa. + + - ¿Qué órdenes de difracción deben capturarse para que la imagen quede resuelta? + +el de primer orden (negativo y positivo). + + - ¿Qué es la Apertura Numérica (AN)? + +Es el seno del angulo entre el orden 0 y uno de los ordenes de difracción. + + - ¿Cómo afecta la longitud de onda de la luz a la distancia entre puntos de difracción? + +A menor amplitud de onda la distancia de los puntos de refraccion disminuye. + + - ¿Qué determina la ecuación de Rayleigh? + +el tamaño minimo de un detalle. / dimension critica. + + - ¿Cuál es el límite máximo teórico de la apertura numérica en un sistema estándar? + +90° o 1 de apertura numerica, más de eso y el lente deberia ser infinito. + +* Física de la Luz Ultravioleta Extrema (EUV) + - ¿Qué longitud de onda se usaba antes de la EUV para los chips más avanzados? + +Luz Ultravioleta de 193nm + + - ¿A quién se le ocurrió la idea de usar rayos X para la litografía en los años 80? + +Hiroo kinoshita + + - ¿Por qué la luz EUV no puede viajar a través del aire? + +Porque la luz de 10nm es absorbida por los atomos de aire. + + - ¿Qué sucede con la luz EUV si intenta pasar a través de una lente de vidrio convencional? + +Lo mismo que con el aire, los electrones son absobidos por el material. + + - ¿Cuál es la longitud de onda exacta de la luz EUV utilizada por ASML? + +11nm. + + - ¿Por qué se prefiere 13.5 nm sobre longitudes de onda más cortas como 4 nm? + +Los materiales para refractar luz de 13.5nm son más comunes. + + - ¿Qué descubrieron Kinoshita, Underwood y Barbee sobre los espejos de rayos X? + +Que los espejos curvos pueden servir para defractar rayos x en lugar le lentes. + + - ¿Cómo funciona la interferencia constructiva en un espejo multicapa? + +la luz al pasar por el espejo y ser reflejada tarde el tiempo suficiente para estar 180° (1/2 $\lambda$ ) pasada de fase haciendo que + + - ¿De qué materiales están hechas las 76 capas de los espejos de Kinoshita? + +tungteno (Wolframio) y Carbono + + - ¿Cuál fue el porcentaje inicial de reflectividad logrado en las pruebas de concepto? + +6%. aproximado. + +* Generación de la "Mini Supernova" (Fuente de Luz) + - ¿Cuántas formas hay de generar luz EUV según las fuentes? + +un acelerador de particulas, DDP plasma producido por descarga, o Uso de un laser para separar los electrones de los atomos. + + - ¿Por qué se descartó el uso de un sincrotrón para la producción en masa? + +Por el alto costo y consumo electrico que tiene + + - ¿Qué ocurre cuando un electrón se recombina con un ion en el plasma? + +Cuando un electrón se recombina con un ion, emite un fotón de luz EUV. + + - ¿Qué técnica utiliza un campo eléctrico fuerte para ionizar vapor de metal? + +La técnica se llama descarga por campo eléctrico (DPP, Discharge Produced Plasma). + + - ¿A qué temperatura se calienta el estaño para crear plasma EUV? + +El estaño se calienta a aproximadamente 220.000 °C para formar plasma. + + - ¿Por qué el xenón fue reemplazado por el estaño como material objetivo? + +Porque el estaño produce mucha más radiación EUV util que el xenón. + + - ¿Cuál es la eficiencia de conversión del estaño comparada con el xenón? + +El estaño alcanza una eficiencia cercana al 5 %, unas 10 veces mayor que el xenón. + + - ¿A qué velocidad sale disparada la gotita de estaño? + +La gota de estaño viaja a unos 70 m/s. + + - ¿Qué tamaño tiene la gota de estaño? + +La gota de estaño mide aproximadamente 30 µm de diámetro. + + - ¿Cuántas veces golpea el láser a cada gotita de estaño? + +El láser golpea cada gota dos veces. y los más actuales 3 veces. + + - ¿Qué hace el primer prepulso láser a la gota de estaño? + +El primer prepulso aplana y expande la gota. + + - ¿Para qué sirve el segundo prepulso en las máquinas más modernas? + +El segundo prepulso optimiza la forma de la gota para mejorar la absorción del láser. + + - ¿Qué hace el pulso principal del láser? + +El pulso principal vaporiza el estaño y genera el plasma EUV. + + - ¿Cuántas gotas de estaño se disparan por segundo? + +Se disparan unas 50.000 gotas por segundo. + + - ¿Cuál es la potencia del láser de dióxido de carbono utilizado? + +El láser de dióxido de carbono tiene una potencia aproximada de 40 kW. + + - ¿Cómo se garantiza que el láser no falle ningún tiro a 50,000 Hz? + +Se sincroniza con precisión mediante sensores y sistemas de control en tiempo real. + + - ¿Qué función cumplen las "cortinas láser" en la fuente de luz? + +Las cortinas láser detectan y corrigen la posición de cada gota. + + - ¿Qué fórmula física explica las ondas de choque del hidrógeno como mini supernovas? + +La ecuación de Rankine-Hugoniot describe esas ondas de choque. + + - ¿Por qué el estaño neutro es un problema para la luz EUV? + +Porque el estaño neutro absorbe fuertemente la luz EUV + + - ¿Cómo se evita que el vapor de estaño destruya los espejos colectores? + +Se elimina con flujos de hidrógeno antes de que llegue a los espejos. + +* Espejos y Óptica de Precisión + - ¿Quién es el socio alemán de ASML encargado de la óptica? + +Zeiss + + - Si un espejo de ASML fuera del tamaño de Alemania, ¿qué tan grande sería su bache más alto? + +2 o 3 atomos. + + - ¿Por qué se dice que estos espejos son los objetos más lisos del universo? + +Porque necesitan serlo para poder ser efectivos en reflejar luz de 13nm + + - ¿Cuál es la reflectividad máxima teórica de los espejos de silicio y molibdeno? + +70% + + - ¿Qué porcentaje de luz se pierde tras seis rebotes en los espejos? + +88% + + - ¿Por qué no se puede usar berilio en los espejos a pesar de su alta reflectividad? + +Es toxico. + + - ¿Qué es el proceso de pulverización en la fabricación de espejos? + +Es un proceso muy delicado donde se deposita el material sobre el espejo. + + - ¿Cómo se utiliza un haz de iones para aplanar los átomos en el espejo? + +Se usa en las zonas altas para alisar la superficie. + + - ¿Cuántos espejos se utilizan normalmente en los sistemas actuales para corregir aberraciones? + +6 + + - ¿Qué precisión deben tener los sensores que miden la posición de los espejos? + +nanometros y picoradian. + + - ¿Qué es un pico radian en el contexto del control de espejos? + +es una mil millonesima de radian, tener este control es comparable a apuntando con un laser decidir a que lado de una moneda situada en la luna apuntar. + + - ¿A qué distancia equivale la precisión de apuntado de un espejo si proyectáramos un láser a la Luna? + +comparable a apuntando con un laser decidir a que lado de una moneda situada en la luna apuntar. + + - ¿Por qué el calor es un problema para la alineación óptica? + +Porque la expansión térmica desalinea los espejos. + + - ¿Cómo limpian el estaño de los espejos usando gas hidrógeno? + +El hidrógeno reacciona con el estaño formando un compuesto gaseoso + + - ¿Cuál fue el "truco del oxígeno" para mantener limpio el colector? + +Añadir pequeñas cantidades de oxígeno para oxidar el estaño y facilitar su eliminación. + +* Historia, Negocios y Desafíos + - ¿En qué país y laboratorio nació la investigación de EUV en EE. UU.? + +Nació en el Lawrence Livermore National Laboratory, en Estados Unidos. + + - ¿Cuál era el propósito original del laboratorio Lawrence Livermore? + +Investigar armas nucleares. + + - ¿Cómo reaccionó la comunidad científica inicialmente a las ideas de Andrew Hawryluk? + +pensaron que era una idea imposible. + + - ¿Qué significa el acrónimo ASML? + +Advanced Semiconductor Materials Lithography. + + - ¿De qué empresa surgió ASML en los años 80? + +Philips + + - ¿Quién es considerado el "Steve Jobs de la litografía"? + +Martin van den Brink + + - ¿Cuánto dinero invirtió Intel para salvar el desarrollo de EUV? + +4.100 millones de dólares + + - ¿Qué otras dos empresas invirtieron masivamente junto a Intel? + +AMD y Motorola + + - ¿Cuál fue el primer prototipo funcional de EUV y cuántos vatios producía? + +10 W + + - ¿Por qué el prototipo inicial no era económicamente viable? + +Porque era demasiado lento para la producción industrial. + + - ¿Cuántas obleas por hora debe imprimir la máquina para ser rentable hoy? + +125 obleas por hora historicamente. 185 hoy. + + - ¿Qué anécdota involucra una capilla y tres velas en la historia de ASML? + +Se encendieron tres velas en una capilla para pedir que el proyecto tuviera éxito. + + - ¿En qué año se instaló el primer sistema comercial en un cliente en Corea? + +2010 + + - ¿Por qué se retiraron las empresas estadounidenses del desarrollo de la máquina completa? + +demasiado costoso y arriesgado. + + - ¿Qué gases se inyectan a velocidades de 360 km/h dentro de la máquina? + +hidrógeno y nitrógeno + +* Logística y la Nueva Generación (Alta AN) + - ¿Cuál es la diferencia de Apertura Numérica entre la baja AN y la Alta AN? + +La baja NA usa 0,33 y la Alta NA 0,55. + + - ¿Qué tan pura debe ser la sala limpia de ASML en cuanto a partículas? + +Solo se permite aproximadamente 1 partícula por metro cúbico. + + - ¿Cuántas partículas permite un quirófano de hospital comparado con la sala de ASML? + +Un quirófano permite miles de veces más partículas que la sala de ASML. + + - ¿Cuál es la aceleración de la retícula (máscara) dentro de la máquina? + +10 veces la gravedad + + - ¿Qué es el overlay (superposición) y cuál es su límite de precisión? + +menos de 2 nm. + + - ¿A cuántos átomos de silicio equivale 1 nanómetro de error de superposición? + +2 átomos de silicio. + + - ¿Cuántas empresas proveedoras participan en la creación de una máquina? + +5.000 empresas proveedoras. + + - ¿Cuántas piezas y tornillos componen aproximadamente una máquina de Alta AN? + +100.000 piezas + + - ¿Cuántos aviones Boeing 747 se necesitan para transportar una sola máquina? + +7 + + - ¿Qué cita de George Bernard Shaw se menciona para describir a los ingenieros de EUV? + +"Las personas razonables se adaptan al mundo; las irrazonables intentan adaptar el mundo a ellas. Por eso, todo progreso depende de las personas irrazonables."